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Tetrametilgermanio, 98 %, Thermo Scientific Chemicals
Descripción
Employed as a Chemical Vapor Deposition (CVD) precursor to germanium oxide thin films.
This Thermo Scientific Chemicals brand product was originally part of the Alfa Aesar product portfolio. Some documentation and label information may refer to the legacy brand. The original Alfa Aesar product / item code or SKU reference has not changed as a part of the brand transition to Thermo Scientific Chemicals.
se usa como precursor de la deposición química de vapor (CVD) de las películas delgadas de óxido de germanio.
Solubilidad
no miscible o difícil de mezclar en agua.
Notas
almacénese lejos de los agentes oxidantes. Mantenga el recipiente bien sellado y guárdelo en un lugar fresco y seco con buena ventilación.
Especificaciones
Especificaciones
| Nombre del producto químico o material | Tetramethylgermanium |
| Punto de fusión | -88°C |
| Densidad | 0.975 |
| Punto de ebullición | 42°C to 44°C |
| Temperatura de inflamación | −37°C (−35°F) |
| Índice de refracción | 1.389 |
| Cantidad | 25 g |
| Número UN | UN1993 |
| Información de solubilidad | Not miscible or difficult to mix in water. |
| Formula Weight (peso de la fórmula) | 132.73 |
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