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Objetivos de pulverización

Objetivos de pulverización

Los objetivos de pulverización son materiales especializados empleados para la deposición de película fina en diversas industrias, incluidos la electrónica, la energía y los textiles. Estos objetivos pueden estar compuestos por diferentes composiciones elementales o de aleación, como metales puros o cerámica, y son bombardeados por iones, haciendo que átomos o moléculas sean expulsados de su superficie. Estas partículas se depositan sobre un sustrato para crear una película delgada y uniforme. Existen diferentes tipos de objetivos de pulverización, incluidos objetivos planares o rotatorios y una gama de materiales, como oro, plata, titanio y tungsteno. Su selección depende de diferentes factores como los requisitos de aplicación, las propiedades del material y la compatibilidad con el sistema de pulverización.
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